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當前位置:首頁 > 產品中心 > > 光學元件 > Eksma 薄膜偏振片(56度角)-2

Eksma 薄膜偏振片(56度角)-2

簡要描述:Eksma 薄膜偏振片(56度角)-2
BK7和UV FS薄膜激光偏振片(TFP)的選擇范圍廣泛,可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值,專為要求較苛刻的應用而設計,工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti:Sapphire或Yb:KGW / KYW激光器。

  • 產品品牌:Eksma
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2025-11-02
  • 訪  問  量:1391

詳細介紹

品牌Eksma價格區間面議
組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合

Eksma 薄膜偏振片(56度角)-2


Eksma 薄膜偏振片(56度角)-2

分離特定波長的s偏振和p偏振分量。由于其高損傷閾值,薄膜偏振片在高能激光器的應用中取代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。

產品介紹

BK7和UV FS薄膜激光偏振片(TFP)的選擇范圍廣泛,可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值,專為要求較苛刻的應用而設計,工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti:Sapphire或Yb:KGW / KYW激光器。

薄膜偏振片將特定波長或波長范圍的S偏振和P偏振分量分開。 由于10 ns薄膜偏振片的高損傷閾值在1064 nm處達到10 J / cm2,因此在高能激光器的應用中替代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。

薄膜偏振片用于高能激光器。它們可以用于Yb:KGW / KYW或Ti:藍寶石激光器的基本波長及其諧波,也可以用作腔內Q開關釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。

We offer four types of thin-film polarizers:

我們提供四種類型的薄膜偏振片:

Ø標準-Rs / Tp:> 99.5 / 95.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高透射率(HT)-Rs / Tp:> 99.5 / 99.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø很高透射率(UHT)-Ts <0.2%,Rp <0.2%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高消光比(HE)-Tp> 98%,Ts <0.1%,消光比Tp / Ts> 1000:1

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

產品型號

 

代碼

波長

材料

偏振效率

消光比

尺寸

420-0256E

800 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1256E

800 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1256HE

800 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1256UHT

800 nm

UV FS

Ts<0.2%, Rp<0.2%

> 500:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1256HT

800 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-0286

800 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

420-1286

800 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

420-1386

800 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

420-0506E

800 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

420-1506E

800 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

420-0138E

1010-1050 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

420-1138E

1010-1050 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

420-0268E

1010-1050 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1268E

1010-1050 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-0298

1010-1050 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

420-1298

1010-1050 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

420-1398

1010-1050 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

420-0528E

1010-1050 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

420-1528E

1010-1050 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

420-0118E

1030 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

420-1118E

1030 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

420-1478HE

1030 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

20 x 15 x 6 mm

420-1248HE

1030 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1248UHT

1030 nm

UV FS

Ts<0.2%, Rp<0.2%

> 500:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1248HT

1030 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-0248E

1030 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1248E

1030 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-0278

1030 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

420-1278

1030 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

420-1278HT

1030 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

420-1578HE

1030 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

30 x 20 x 6 mm

420-1378

1030 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

420-0518E

1030 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

420-1518E

1030 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

420-0128E

1064 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

420-1128E

1064 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

420-1488HE

1064 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

20 x 15 x 6 mm

420-1258HE

1064 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1258UHT

1064 nm

UV FS

Ts<0.2%, Rp<0.2%

> 500:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1258HT

1064 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-0258E

1064 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1258E

1064 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1288HT

1064 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

420-0288

1064 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

420-1288

1064 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

420-1588HE

1064 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

30 x 20 x 6 mm

420-1388

1064 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

420-0508E

1064 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

420-1508E

1064 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

420-0259E

1550 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1269E

1530-1570 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

420-1399

1530-1570 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

 

材料

BK7, UV FS

表面質量

20-10表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)

透射波前畸變

λ/10 @ 633 nm

平行性

< 30 arcsec

通光孔徑

> 90%

入射角

56°±2°

直徑公差

+0.0 -0.12 mm

厚度公差

±0.2 mm

激光損傷閾值

10 J/cm2, 10 nsec pulse at 1064 nm typical, 50 Hz

消光比Tp / Ts

>200:1 (for standard, HT and UHT series)

>1000:1 (for HE series)

 

BK7和UV FS薄膜激光偏振片(TFP)的選擇范圍廣泛,可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值,專為要求較苛刻的應用而設計,工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti:Sapphire或Yb:KGW / KYW激光器。

薄膜偏振片將特定波長或波長范圍的S偏振和P偏振分量分開。 由于10 ns薄膜偏振片的高損傷閾值在1064 nm處達到10 J / cm2,因此在高能激光器的應用中替代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。

薄膜偏振片用于高能激光器。它們可以用于Yb:KGW / KYW或Ti:藍寶石激光器的基本波長及其諧波,也可以用作腔內Q開關釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。

We offer four types of thin-film polarizers:

我們提供四種類型的薄膜偏振片:

Ø標準-Rs / Tp:> 99.5 / 95.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高透射率(HT)-Rs / Tp:> 99.5 / 99.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø很高透射率(UHT)-Ts <0.2%,Rp <0.2%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高消光比(HE)-Tp> 98%,Ts <0.1%,消光比Tp / Ts> 1000:1

EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

BK7和UV FS薄膜激光偏振片(TFP)的選擇范圍廣泛,可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值,專為要求較苛刻的應用而設計,工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti:Sapphire或Yb:KGW / KYW激光器。

薄膜偏振片將特定波長或波長范圍的S偏振和P偏振分量分開。 由于10 ns薄膜偏振片的高損傷閾值在1064 nm處達到10 J / cm2,因此在高能激光器的應用中替代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。

薄膜偏振片用于高能激光器。它們可以用于Yb:KGW / KYW或Ti:藍寶石激光器的基本波長及其諧波,也可以用作腔內Q開關釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。

We offer four types of thin-film polarizers:

我們提供四種類型的薄膜偏振片:

Ø標準-Rs / Tp:> 99.5 / 95.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高透射率(HT)-Rs / Tp:> 99.5 / 99.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø很高透射率(UHT)-Ts <0.2%,Rp <0.2%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高消光比(HE)-Tp> 98%,Ts <0.1%,消光比Tp / Ts> 1000:1

 

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